LF55GN Photosensitive Flexopolymer as a New Material for Ultra-Thick and High-Aspect-Ratio MEMS Fabrication
2007
Détails
Titre
LF55GN Photosensitive Flexopolymer as a New Material for Ultra-Thick and High-Aspect-Ratio MEMS Fabrication
Auteur(s)
Sayah, A. ; Parashar, V.K. ; Gijs, M.A.M.
Publié dans
Technical Digest of the IEEE MEMS 2007
Pages
219-222
Présenté à
MEMS 2007, Kobe, Japan, January 21-25, 2007
Date
2007
Autres identifiant(s)
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Laboratoires
LMIS2
Le document apparaît dans
Production scientifique et compétences > STI - Faculté des sciences et techniques de l'ingénieur > IEM - Institute of Electrical and Micro Engineering > LMIS2 - Laboratoire de microsystèmes 2
Publications validées par des pairs
Papiers de conférence
Travail produit à l'EPFL
Publié
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Publié
Date de création de la notice
2007-02-13