Ce document décrit l'ajustement passif de l'embase MilliNewton, version E, ainsi que les résultats obtenus sur 5 substrats, avant ajustement, après ajustement et après recuit ultérieur de stabilisation. La correction des défauts de l'embase D permet notamment la sérigraphie plus mince et avec des paramètres plus raisonnables de la composition résistive 100 kOhm ESL 3915. Le problème de sa grande variation en valeur subsiste, mais est maintenant sous contrôle. La diminution d'épaisseur de cette composition permet l'abaissement de la puissance de coupe, ce qui améliore la stabilité et la précision des 100 kOhm, mais aussi des résistances basées sur la composition 10 kOhm DP 2041, qui a de sérieux problèmes de stabilité si elle est ajustée à puissance trop élevée.